کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5422981 | 1507934 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Temperature-dependent nucleation and capture-zone scaling of C60 on silicon oxide
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We deposit submonolayer C60 on thin SiO2 to characterize its initial nucleation. ⺠We analyze film capture zones using gamma and generalized Wigner distributions. ⺠We find critical nucleus sizes i between stable monomers and dimers for 293-483 K. ⺠With increasing temperature, i first rises, then falls. ⺠Surface defects appear to play an important role in this system.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 606, Issues 1â2, January 2012, Pages 53-56
Journal: Surface Science - Volume 606, Issues 1â2, January 2012, Pages 53-56
نویسندگان
M.A. Groce, B.R. Conrad, W.G. Cullen, A. Pimpinelli, E.D. Williams, T.L. Einstein,