کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5422981 1507934 2012 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Temperature-dependent nucleation and capture-zone scaling of C60 on silicon oxide
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Temperature-dependent nucleation and capture-zone scaling of C60 on silicon oxide
چکیده انگلیسی
► We deposit submonolayer C60 on thin SiO2 to characterize its initial nucleation. ► We analyze film capture zones using gamma and generalized Wigner distributions. ► We find critical nucleus sizes i between stable monomers and dimers for 293-483 K. ► With increasing temperature, i first rises, then falls. ► Surface defects appear to play an important role in this system.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 606, Issues 1–2, January 2012, Pages 53-56
نویسندگان
, , , , , ,