کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5423190 1507930 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Attenuation lengths of high energy photoelectrons in compact and mesoporous SiO2 films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Attenuation lengths of high energy photoelectrons in compact and mesoporous SiO2 films
چکیده انگلیسی
► Experimental AL of photoelectrons traveling in compact and microporous SiO2 films. ► AL are 15-22 nm for compact SiO2 and 23-32 nm for porous SiO2 films for electron energies 8.2-13.2 keV. ► An extrapolation of the TPP2M formula reproduces rather well the experimental observations.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 606, Issues 9–10, May 2012, Pages 820-824
نویسندگان
, , , , , , ,