کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5423190 | 1507930 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Attenuation lengths of high energy photoelectrons in compact and mesoporous SiO2 films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Attenuation lengths of high energy photoelectrons in compact and mesoporous SiO2 films Attenuation lengths of high energy photoelectrons in compact and mesoporous SiO2 films](/preview/png/5423190.png)
چکیده انگلیسی
⺠Experimental AL of photoelectrons traveling in compact and microporous SiO2 films. ⺠AL are 15-22 nm for compact SiO2 and 23-32 nm for porous SiO2 films for electron energies 8.2-13.2 keV. ⺠An extrapolation of the TPP2M formula reproduces rather well the experimental observations.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 606, Issues 9â10, May 2012, Pages 820-824
Journal: Surface Science - Volume 606, Issues 9â10, May 2012, Pages 820-824
نویسندگان
F.J. Ferrer, J. Gil-Rostra, L. González-GarcÃa, J. Rubio-Zuazo, P. Romero-Gómez, M.C. López-Santos, F. Yubero,