کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5423349 | 1507940 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ STM observation during InAs growth in nano holes at 300 °C
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We confirmed that In atoms favor to congregate inside a hole structure. ⺠We fabricated hole structures by applying voltage during As4 irradiation at 300 °C. ⺠With the In and As4 irradiations, the hole structures congregated In atoms. ⺠Growth rate inside the hole structure was higher than that on the WL region.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 605, Issues 13â14, July 2011, Pages 1320-1323
Journal: Surface Science - Volume 605, Issues 13â14, July 2011, Pages 1320-1323
نویسندگان
Takashi Toujyou, Shiro Tsukamoto,