کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5424130 | 1507957 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Surface processes during growth of InAs/GaAs quantum dot structures monitored by reflectance anisotropy spectroscopy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We have for the first time observed in situ the mechanism of In atoms migration from QDs during GaAs capping layer growth. First the GaAs layer is formed and then the In migration from QDs follows. These two processes do not start at the same time, the In dissolution is delayed. Conclusions extracted from RAS measurement are in agreement with photoluminescence results.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 604, Issues 3â4, 15 February 2010, Pages 318-321
Journal: Surface Science - Volume 604, Issues 3â4, 15 February 2010, Pages 318-321
نویسندگان
A. Hospodková, J. VyskoÄil, J. Pangrác, J. Oswald, E. Hulicius, K. Kuldová,