کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5426540 | 1395890 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dynamics of copper atoms on Si(1 1 1)-7 Ã 7 surfaces
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
This study investigated the dynamics of copper atoms adsorbed on Si(1Â 1Â 1)-7Â ÃÂ 7 surfaces between 300Â K and 623Â K using a variable-temperature scanning tunneling microscope (STM). The diffusion behavior of copper clusters containing up to â¼6 atoms into a particular half unit cell of the 7Â ÃÂ 7 reconstructed Si(1Â 1Â 1) surface was considered. The movements and the formation of copper clusters were tracked in detail. The activation energies and pre-exponential factors for various diffusion paths were estimated. Finally, the Cu-etching-Si process and the quasi-5Â ÃÂ 5 incommensurated phase of Cu/Si islands were discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 601, Issue 18, 15 September 2007, Pages 3974-3978
Journal: Surface Science - Volume 601, Issue 18, 15 September 2007, Pages 3974-3978
نویسندگان
Mon-Shu Ho, I-Wu Wang, Chih-Chuan Su,