کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5426918 | 1395912 | 2006 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Morphology of alkali halide thin films studied by AFM
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Thin layers of alkali halides were investigated by atomic force microscope (AFM). The studied systems were: LiBr/KBr(0Â 0Â 1) with â16.7% misfit, LiF/Si(0Â 0Â 1) with +4.4% misfit, LiBr/LiF(0Â 0Â 1) with +36.8% misfit and NaCl/Si(0Â 0Â 1) with +46.5% misfit. The results show that the surface morphology strongly depends on the temperature of layer formation. The alkali halides deposited on the foreign substrate at elevated temperatures or at room temperature and subsequently annealed form preferentially 3D islands leaving uncovered substrate areas between them. It is suggested that Ostwald ripening takes place at elevated temperatures.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 600, Issue 8, 15 April 2006, Pages 1689-1696
Journal: Surface Science - Volume 600, Issue 8, 15 April 2006, Pages 1689-1696
نویسندگان
F. Golek, P. Mazur, Z. Ryszka, S. Zuber,