کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5440993 | 1510371 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Refractive-index variation with rare-earth incorporation in amorphous Al2O3 thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Rare-earth-doped amorphous aluminum oxide (Al2O3:RE3Â +) thin films are attractive materials for near-IR amplifiers and lasers that can be integrated with silicon-on-insulator waveguides or deposited onto CMOS-fabricated integrated optical structures. We characterize reactively co-sputtered Al2O3:Tm3Â + films on silicon by X-ray diffraction, scanning electron microscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy, and Raman spectroscopy. The refractive index is systematically studied for different Tm3Â + concentrations. The resulting increase of refractive index is explained by analyzing the mechanism of incorporating Tm3Â + ions into the amorphous Al2O3 network. Sellmeier dispersion formulas are presented.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 476, 15 November 2017, Pages 95-99
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 476, 15 November 2017, Pages 95-99
نویسندگان
Pavel Loiko, Nur Ismail, Jonathan D.B. Bradley, Mats Götelid, Markus Pollnau,