کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5446601 1511143 2016 10 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasma-free Dry-chemical Texturing Process for High-efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells
ترجمه فارسی عنوان
فرآیند متنبویی خشک و شیمیایی بدون پلاسما برای سلول های خورشیدی سیلیکون چند بلوک با کارآیی بالا
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی انرژی انرژی (عمومی)
چکیده انگلیسی
In this paper, we study the influence of modifying the geometry of nanotexture on its electrical properties. Nanotexture is formed by an industrially feasible dry-chemical etching process performed entirely in atmospheric pressure conditions. A surface modification process is developed that allows low surface recombination velocities (Seff,min ≤ 10 cm/s) on nanotextured surfaces. By simultaneously improving the surface passivation and the emitter diffusion processes, we achieve an equivalent passivation level (VOC,impl ≥ 670 mV) for nanotextured surfaces to that of reference textured surfaces after applying either PECVD or ALD based deposition techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Energy Procedia - Volume 92, August 2016, Pages 359-368
نویسندگان
, , , , , , , , , ,