کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5448415 1511779 2016 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Suppression of interfacial layer in high-K gate stack with crystalline high-K dielectric and AlN buffer layer structure
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Suppression of interfacial layer in high-K gate stack with crystalline high-K dielectric and AlN buffer layer structure
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 184, 1 December 2016, Pages 291-297
نویسندگان
, , , , , ,