کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5451611 | 1398547 | 2017 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electrical and Corrosion Properties of Titanium Aluminum Nitride Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
ترجمه فارسی عنوان
خواص الکتریکی و خوردگی فیلم های نازک آلومینیوم تیتانیوم نیتروژن تهیه شده توسط پلاسما-بهبود یافته لایه های اتمی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
نیترید تیتانیوم-آلومینیوم، رسوب لایه اتمی افزایش پلاسما، حفاظت در برابر خوردگی، نیتریت های ترمینال انتقال فلز،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
شیمی مواد
چکیده انگلیسی
Titanium-aluminum-nitride (TiAlN) films were grown by plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) on 316L stainless steel at a deposition temperature of 200â°C. A supercycle, consisting of one AlN and ten TiN subcycles, was used to prepare TiAlN films with a chemical composition of Ti0.25Al0.25N0.50. The addition of AlN to TiN resulted in an increased electrical resistivity of TiAlN films of 2800 µΩ cm, compared with 475 µΩ cm of TiN films, mainly due to the high electrical resistivity of AlN and the amorphous structure of TiAlN. However, potentiostatic polarization measurements showed that amorphous TiAlN films exhibited excellent corrosion resistance with a corrosion current density of 0.12 µA/cm2, about three times higher than that of TiN films, and about 12.5 times higher than that of 316L stainless steel.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Materials Science & Technology - Volume 33, Issue 3, March 2017, Pages 295-299
Journal: Journal of Materials Science & Technology - Volume 33, Issue 3, March 2017, Pages 295-299
نویسندگان
Eun-Young Yun, Woo-Jae Lee, Qi Min Wang, Se-Hun Kwon,