کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5457832 1515949 2017 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of Ar ion etching on the surface topography of cemented carbide cutting inserts
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر آرگون یون آلی بر توپوگرافی سطحی درجۀ برش کاربید سیمان
کلمات کلیدی
ترجمه چکیده
تمیز کردن بستر در محل توسط اچینگ یونی قبل از رسوب فیزیکی بخار از پوشش های سخت تغییر توپوگرافی و ترکیب سطح پوشش داده می شود. در این کار، تأثیر آرگون یون بر روی توپوگرافی سطح کاربید سیمان با برش های مختلف با هندسه های مختلف مورد بررسی قرار گرفت. سطح درج های برش قبل و بعد از اچینگ یونی با استفاده از تکنیک های میکروسکوپ الکترونی مختلف اسکن برای ارزیابی اثر اچینگ یونی بر روی هر دو، لبه های برش و سطح صاف مورد بررسی قرار گرفت. علاوه بر این، اندازه گیری پروفیل سنجی برای تعیین تغییرات زبری سطح و اندازه گیری مواد حذف شده با اندازه گیری ارتفاع گام بین سطح اچ شده و غیر اچ شده انجام شد. زبری سطح و ضخامت لایه حذف شده با زمان اچینگ در ولتاژ تعویض ثابت افزایش می یابد، در حالی که ولتاژ اعمال شده تنها یک تاثیر جزئی دارد. علاوه بر این، نقشه برداری از طیف سنجی اشعه ایکس پراکنده انرژی نشان داد که تغییر ساختار سطح توسط اچینگ یونی به علت پراکندگی ترجیحی فاز اتصال دهنده کبالت نشان می دهد.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فلزات و آلیاژها
پیش نمایش مقاله
تأثیر آرگون یون آلی بر توپوگرافی سطحی درجۀ برش کاربید سیمان
چکیده انگلیسی
In situ substrate cleaning by ion etching prior to physical vapor deposition of hard coatings alters topography and composition of the surface to be coated. Within this work, the influence of Ar ion etching on the surface topography of cemented carbide cutting inserts with different geometries was investigated. The surface of cutting inserts before and after ion etching was evaluated by different scanning electron microscopy techniques to illuminate the effect of ion etching on both, the cutting edges and the flat surface. Additionally, profilometric measurements were carried out to determine changes of the surface roughness and to quantify the removed material by measuring the step height between the etched and un-etched surface. Surface roughness and thickness of the removed layer increased with etching time at constant bias voltage, while the applied voltage had only a minor influence. In addition, energy-dispersive X-ray spectroscopy mappings indicated changes of the surface composition by ion etching due to preferential sputtering of the cobalt binder phase.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: International Journal of Refractory Metals and Hard Materials - Volume 69, December 2017, Pages 234-239
نویسندگان
, , , , , ,