کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
546003 | 1450559 | 2007 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Density functional theory of high-k dielectric gate stacks
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Density functional theory is the method of choice in theoretical materials science. It has also proved to be a useful tool in device engineering, particularly at nanoscale and when novel materials are involved. In this paper, we briefly review recent theoretical results in the area of the advanced gate stack materials engineering.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 47, Issues 4–5, April–May 2007, Pages 686–693
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 47, Issues 4–5, April–May 2007, Pages 686–693
نویسندگان
Alexander A. Demkov, Onise Sharia, Xuhui Luo, Jaekwang Lee,