| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 546030 | 1450559 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												LOCOS induced stress effects on SOI bipolar devices
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													مهندسی کامپیوتر
													سخت افزارها و معماری
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												چکیده انگلیسی
												The effects of thermal and intrinsic stress produced on SOI substrates by the field oxidation have been studied. Results of electrical and structural characterization obtained on SOI have been compared with standard bulk Si and a different structure has been adopted in order to reduce the induced stress.
ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 47, Issues 4–5, April–May 2007, Pages 802–805
											Journal: Microelectronics Reliability - Volume 47, Issues 4–5, April–May 2007, Pages 802–805
نویسندگان
												S. Privitera, R. Modica, V. Cerantonio, G. Fallica, G. Pappalardo,