کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
546216 | 1450561 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Gate voltage and oxide thickness dependence of progressive wear-out of ultra-thin gate oxides
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The progressive wear-out of a breakdown path in ultra-thin gate oxides depends on oxide thickness and follows the intrinsic voltage acceleration model of time to breakdown. The quantification of progressive wear-out in this work is the critical step towards product relevant assessment of ultra-thin gate oxides.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issues 9–11, September–November 2006, Pages 1603-1607
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issues 9–11, September–November 2006, Pages 1603-1607