کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
546216 1450561 2006 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Gate voltage and oxide thickness dependence of progressive wear-out of ultra-thin gate oxides
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Gate voltage and oxide thickness dependence of progressive wear-out of ultra-thin gate oxides
چکیده انگلیسی

The progressive wear-out of a breakdown path in ultra-thin gate oxides depends on oxide thickness and follows the intrinsic voltage acceleration model of time to breakdown. The quantification of progressive wear-out in this work is the critical step towards product relevant assessment of ultra-thin gate oxides.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issues 9–11, September–November 2006, Pages 1603-1607