کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
546217 | 1450561 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
FinFET and MOSFET preliminary comparison of gate oxide reliability
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this work, the influence of gate oxide reliability on N channel FinFET and MOSFET characteristics has been preliminary compared. For similar oxide damage, the results show that the oxide wear out has larger effects on the functionality of the FinFET than on the MOSFET.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issues 9–11, September–November 2006, Pages 1608-1611
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issues 9–11, September–November 2006, Pages 1608-1611