کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5468082 | 1518927 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Planar magnetron sputtering with supplementary electron injection
ترجمه فارسی عنوان
اسپکترومغناطیسی مگنترون پلارو با تزریق الکترون تکمیلی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
تخلیه مغناطیسی، هدف، کاتد توخالی، تزریق الکترونی یون فعلی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
The characteristics of a magnetron discharge system enhanced by the supplementary injection of energetic electrons are presented. Two versions of a two-stage arrangement were explored: central electron injection and peripheral injection into the cathode layer from an auxiliary glow discharge located downstream of the plane of the sputter target. Electrons injected form the auxiliary discharge are accelerated in the cathode layer of the magnetron discharge to an energy sufficient for effective gas ionization and formation of dense plasma near the sputter target. The minimum operating pressure of the non-self-sustained magnetron discharge is 4 Ã 10â2 Pa at a discharge current of up to 400 mA. The two different embodiments, with central and peripheral electron injection, show stable operating modes differing in discharge voltage and plasma parameters.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 143, September 2017, Pages 458-463
Journal: Vacuum - Volume 143, September 2017, Pages 458-463
نویسندگان
Maxim V. Shandrikov, Alexey S. Bugaev, Efim M. Oks, Alexey V. Vizir, Georgy Yu. Yushkov,