کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5468085 | 1518927 | 2017 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A comparative study on the properties of chromium coatings deposited by magnetron sputtering with hot and cooled target
ترجمه فارسی عنوان
یک مطالعه تطبیقی در خصوص خواص کروم پوشش داده شده توسط اسپری شدن مگنترون با هدف داغ و سرد
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
پرتقال هدف داغ، تعادل انرژی، فیلم کروم، نرخ رسوب بالا، خواص فیلم،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
This article reports on the analysis of energy flux density to the substrate and results of the detailed study of properties of Cr coatings deposited by magnetron sputtering with hot and cooled Cr targets. It was demonstrated that deposition rates of Cr films increase and particle flow density on the substrate changes by target sublimation. Heat radiation of the hot target leads to more rapid heating of the substrate and this energy flux has a main contribution in enhancement of total energy flux density on the substrate (from 0.06 to 0.43Â W/cm2). As consequence, energy per deposited atom increases in 5.8 times for the hot Cr target sputtering even taking into account higher deposition rates. Cr films deposited by the cooled target sputtering have a (110) crystal texture, columnar microstructure, low surface roughness (â¼2.66Â nm) and hardness from 13.8 to 14.2Â GPa. In the case of the hot target sputtering, the competitive crystal growth of (110) and (200) directions is observed, microstructure of the Cr films is denser and homogeneous, grain size increases up to 200-300Â nm and film surface becomes coarse (Ra â¼11.75Â nm), hardness of the Cr films drops by a factor of about 2.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 143, September 2017, Pages 479-485
Journal: Vacuum - Volume 143, September 2017, Pages 479-485
نویسندگان
D.V. Sidelev, G.A. Bleykher, M. Bestetti, V.P. Krivobokov, A. Vicenzo, S. Franz, M.F. Brunella,