کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5468323 | 1518930 | 2017 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
How high can the mobility of monolayer tungsten disulfide be?
ترجمه فارسی عنوان
چقدر می تواند تحرک دیسولفید تنگستن یکنواخت باشد؟
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
Monolayer tungsten disulfide is a very promising two-dimensional material for future transistor technology. Monolayer tungsten disulfide, owing to the unique electronic properties of its atomically thin two-dimensional layered structure, can be made into a high-performance transistor device. In this paper, we focus on band-structure and carrier mobility calculations for monolayer tungsten disulfide. We use the tight-binding (TB) method and modified effective mass approximation (MEMA) to calculate the band-structure, density of states, velocity square, and other physical quantities of monolayer tungsten disulfide. Electron mobility using the Kubo-Greenwood formula is calculated based on the TB and MEMA band model, respectively. The phonon-limited electron mobility of monolayer can be reached to â¼700Â cm2/Vs. Our results help to design the future nanoelectronic devices with monolayer WS2.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 140, June 2017, Pages 172-175
Journal: Vacuum - Volume 140, June 2017, Pages 172-175
نویسندگان
Kuan-Ting Chen, Shu-Tong Chang,