کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5468470 1518936 2016 10 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Surface characterization of magnesium fluoride thin films prepared by a fluorine trapping based non-reactive sputtering technique
ترجمه فارسی عنوان
خصوصیات سطحی از فیلم های نازک منیزیم فلوئورید تهیه شده توسط تکنیک اسپری شدن غیر واکنشی بر پایه فنر فلوئور
ترجمه چکیده
رسوب موفقیتآمیز فیلمهای نازک فلوراید منیزیم با تکنیک اسپکترومغناطیسی مگنترون غیر متعارف در اینجا گزارش شده و سپس آنالیز خواص نوری، مورفولوژیکی و ساختاری آنها گزارش شده است. نقص در عرضه خارجی گازهای فلوراید خطرناک بهداشتی در زمینه تهیه فیلم های فلوراید با استفاده از فرایندهای متداول اسپری، با به دام انداختن گاز فلوراید جدا شده در داخل محفظه در طی رسوب، کاملا حذف شد. وابستگیهای اصلی خواص فیلم نازک که در بالا ذکر شد بر قدرت انرژی مگنترون بررسی شده است. کیفیت سازه های سطح بر اساس زبری سطح و پارامترهای عملکرد همبستگی سطح مورد تحلیل قرار گرفت. در بررسی حاضر، همبستگی کیفی مورفولوژی فیلم با خواص اپتیکی چنین فیلمهای فلوراید مشاهده شد. نرخ رشد فیلم ها در تعیین سطح توپوگرافی فیلم ها اهمیت زیادی دارد. بررسی دقیق ساختار فیلم به وضوح افزایش قابل توجهی در اندازه کریستالیت با افزایش میزان اسپری شدن نشان داد. ترکیب فیلم در طول محدوده قدرت مورد مطالعه که توسط طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس دیده می شود، حفظ می شود. در نهایت، قدرت تفکیک مطلوب برای رسوب فیلم با توجه به کیفیت ساختار سطح و کیفیت نوری فیلم ها تعیین گردید.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
چکیده انگلیسی
Successful deposition of magnesium fluoride thin films by a non-conventional magnetron sputtering technique is reported here followed by the analysis of their optical, morphological and structural properties. The drawback in the external supply of health hazardous fluorinated gases in the context of fabricating fluoride films by conventional sputtering processes was completely eliminated by trapping the dissociated fluorine gas inside the chamber during deposition. The dependencies of basic thin film properties stated above on magnetron energizing power were investigated. Qualities of surface structures were analyzed on the basis of surface roughness and surface correlation function parameters. A qualitative correlation of film morphology with optical properties of such fluoride films was observed in the present study. Film growth rates were found to have great importance in deciding the surface topography of the films. Careful investigation of film structure clearly revealed a remarkable increase in crystallite size with the increase in sputtering power. The composition of the film is maintained throughout the studied power range as seen by X-ray photoelectron spectroscopy. Finally, optimum sputtering power for film deposition was decided by taking into consideration the quality in surface structure together with optical quality of the films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 134, December 2016, Pages 110-119
نویسندگان
, , , , , , , ,