کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
547662 | 1450560 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Micro-mechanical testing of SiLK by nanoindentation and substrate curvature techniques
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Advanced micro-mechanical characterization methods provide material properties of thin films for modeling thermo-mechanical behavior of thin films for micro-electronic applications. Here, we focus on the local measurement method of nanoindentation for finding visco-elastic properties, and a global method of substrate curvature testing that provides linear elastic properties. Our specimen SiLK, Dow chemicals, is a low-k dielectric thin polymer film with a thickness of 400 nm, 6 and 8 μm, deposited on Si substrate. Our results show temperature dependent linear elastic and linear visco-elastic material properties for thin film materials.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 47, Issues 2–3, February–March 2007, Pages 248–251
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 47, Issues 2–3, February–March 2007, Pages 248–251
نویسندگان
V. Gonda, K.M.B. Jansen, L.J. Ernst, J. den Toonder, G.Q. Zhang,