کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
547721 | 872027 | 2006 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
ESD robustness of thin-film devices with different layout structures in LTPS technology
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The electrostatic discharge (ESD) robustness of different thin-film devices, including three diodes and two thin-film transistors (TFTs) in low-temperature polysilicon (LTPS) technology, is investigated. By using the transmission line pulse generator (TLPG), the high-current characteristics and the secondary breakdown current (It2) of these thin-film devices are observed. The experimental results with different parameters and layout structures of these LTPS thin-film devices have been evaluated for optimizing ESD protection design for liquid crystal display (LCD) panel.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issue 12, December 2006, Pages 2067–2073
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 46, Issue 12, December 2006, Pages 2067–2073
نویسندگان
Chih-Kang Deng, Ming-Dou Ker,