کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5488904 1399589 2017 16 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
GaSb/InGaAs 2-dimensional hole gas grown on InP substrate for III-V CMOS applications
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه فیزیک و نجوم فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
GaSb/InGaAs 2-dimensional hole gas grown on InP substrate for III-V CMOS applications
چکیده انگلیسی
The electrical properties were also observed by Hall measurement, indicating a high hole mobility of 653 cm2/Vs and high carrier concentration of 4.3 × 1012/cm2 at RT.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Current Applied Physics - Volume 17, Issue 7, July 2017, Pages 1005-1008
نویسندگان
, , , , ,