کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
549516 | 872381 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Design of a fully CMOS compatible 3-μm size color pixel
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this paper a newly designed, structurally different version of the TFD is proposed, through which a three-color passive pixel can be implemented with a width reduced to 3 μm in a CMOS standard 90 nm technology. Experimental results on a prototypal device are also reported.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 50, Issue 2, February 2010, Pages 169-173
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 50, Issue 2, February 2010, Pages 169-173
نویسندگان
G. Langfelder,