کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
549612 | 872391 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Indirect fitting procedure to separate the effects of mobility degradation and source-and-drain resistance in MOSFET parameter extraction
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A new procedure is presented to separate the effects of source-and-drain series resistance and mobility degradation factor in the extraction of MOSFET model parameters. It requires only a single test device and it is based on fitting the ID(VGS, VDS) equation to the measured characteristics. Two types of bidimensional fitting are explored: direct fitting to the drain current and indirect fitting to the measured source-to-drain resistance. The indirect fitting is shown to be advantageous in terms of fewer number of iterations needed and wider extent of initial guess values range.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 49, Issue 7, July 2009, Pages 689–692
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 49, Issue 7, July 2009, Pages 689–692
نویسندگان
Adelmo Ortiz-Conde, Francisco J. García-Sánchez, Juan Muci, Denise C. Lugo Muñoz, Álvaro D. Latorre Rey, Ching-Sung Ho, Juin J. Liou,