کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6846159 1436503 2016 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dynamically stable nanostructures in heavy-ion implanted silica glass
ترجمه فارسی عنوان
نانوساختارهای پایدار پویا در شیشه های سیلیکا ایمپلنت سنگین
کلمات کلیدی
کاشت سنگین یون، فرآیندهای ناشی از تابش، نانوساختارها، مقاومت پرتو،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی انرژی انرژی هسته ای و مهندسی
چکیده انگلیسی
Surface recession does not dominate for 60 keV Cu- ion implantation of silica glass. Formation of dynamically stable structures during 60 keV Cu- ion implantation of silica glass cannot be explained if the drift of implants is excluded from considerations. Considerations have shown that the drift's contribution increases with increasing the ion flux. A mechanism of depleted region formation in the dynamically stable structures has been demonstrated. According to this mechanism, formation of a depleted region within the implanted layer is caused by expelling effect of electric field from the region where the electric field is zero. Necessary drift velocity is provided by Cu+ solutes. A method utilizing images of the dynamically stable structures has been proposed for evaluation of the implant drift's role in the saturation kinetics.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Energy and Technology - Volume 2, Issue 3, September 2016, Pages 223-230
نویسندگان
,