کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6945607 1450517 2018 10 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Stability of low ohmic thick-film resistors under pulsed operation
ترجمه فارسی عنوان
پایداری مقاومتی مقاوم در برابر ضخامت پوسته اهمی تحت عملیات پالس
ترجمه چکیده
بارهای پالس تکراری برای نمونه های انتخاب شده مورد استفاده قرار گرفت. نتایج نشان می دهد که مقاومت در برابر مقاومت بسیار خوب پس از آزمایش با 0.1 میلیون پالس با دامنه 70٪ از مقادیر شدت میدان الکتریکی واقعی است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
پایداری مقاومتی مقاوم در برابر ضخامت پوسته اهمی تحت عملیات پالس
چکیده انگلیسی
Repetitive pulse load was applied for selected samples. The results show that resistors exhibited very good stability after test with 0.1 million pulses with amplitude of 70% of critical electric field intensity values.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 84, May 2018, Pages 95-104
نویسندگان
, ,