کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6946909 1450547 2014 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pattern image enhancement by extended depth of field
ترجمه فارسی عنوان
تقویت الگوی تصویر با عمق گسترده ای از میدان
کلمات کلیدی
میکروسکوپ مادون قرمز، عمق میدان گسترش، شکل از تمرکز، تمرکز اندازه گیری، پردازش تصویر،
ترجمه چکیده
بیشتر تکنیک های تشخیص نقص نوری مانند تحریک لیزر پویا یا میکروسکوپ انتشار فوتون نیاز به تصویر الگوی دستگاه می گیرند. هدف اصلی برای ناوبری دستگاه است، اما همچنین تحلیلگر را قادر می سازد موقعیت مکانی نظارت شده را با قرار دادن آن بر روی تصویر الگو، شناسایی کند. گردش کار محلی سازی نقص معمولا در بزرگنمایی کم یا متوسط ​​شروع می شود. در این مقیاسها، عوامل متعددی می توانند منجر به عدم تقارن نمونه با محور نوری سیستم شوند. بنابراین، تصاویر می توانند به صورت محلی خارج از فوکوس و ضعیف حل شوند. در این مقاله، یک روش مبتنی بر عمق میدان فرمت پیشنهاد شده است تا تصویر الگو را تصحیح کند.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
تقویت الگوی تصویر با عمق گسترده ای از میدان
چکیده انگلیسی
Most optical defect localization techniques such as dynamic laser stimulation or photon emission microscopy require a pattern image of the device to be taken. The main purpose is for device navigation, but it also enables the analyst to identify the location of the monitored activity by superimposing it onto the pattern image. The defect localization workflow usually starts at low or medium magnification. At these scales, several factors can lead to a lack of orthogonality of the sample with the optical axis of the system. Therefore, images can be locally out of focus and poorly resolved. In this paper, a method based on Depth of Field Extension is suggested to correct the pattern image.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 54, Issues 9–10, September–October 2014, Pages 2099-2104
نویسندگان
, , , , , ,