کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6947085 | 1450550 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of residual stress on the electrical activity of dislocations in GaN light emitting diodes
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The EBIC mode of SEM was used to image individual dislocations and measure the effect of local stress on EBIC contrast of threading dislocations (TDs) in GaN LEDs. In this method, EBIC shows that localized residual stress increases the recombination strength, γ, of TDs, which increases non-radiative recombination and leakage current in GaN LEDs.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 52, Issues 9â10, SeptemberâOctober 2012, Pages 2039-2042
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 52, Issues 9â10, SeptemberâOctober 2012, Pages 2039-2042
نویسندگان
T. Nshanian, P.N. Grillot, M. Holub, S. Watanabe, W. Götz,