کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6947152 | 1450550 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A new approach for making electrically conductive interconnections between small contacts in failure analysis
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We have investigated two new methods to establish an electrically conductive interconnection between two contacts on a semiconductor device inside a Scanning Electron Microscope (SEM). Both methods use a nanowire that is transported to the contacts. The first interconnection is made using a glue that can be hardened inside the SEM to fix the nanowires at the contacts. The other approach makes use of a microsoldering unit that is mounted on a micromanipulator and can be heated up to 200 °C. A special solder is used to make a low ohmic connection between the contacts.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 52, Issues 9â10, SeptemberâOctober 2012, Pages 2135-2138
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 52, Issues 9â10, SeptemberâOctober 2012, Pages 2135-2138
نویسندگان
Andreas Rummel, Klaus Schock, Andrew Smith, Stephan Kleindiek,