کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6947159 | 1450550 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reliability studies on GaN HEMTs with sputtered Iridium gate module
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A new gate module with Iridium as a degradation resistant Schottky contact is developed. The technology for GaN based HEMT devices comprises sputtering of low stress Iridium contacts and subtractive pattern delineation. Robustness and reliability of the devices were investigated by step-stress-test, IDQ-test, storage test and DC life-test. Leakage currents during robustness tests remain at low and stable level. From storage tests no sign of diffusion in the gate module was detected. Accelerated testing estimates an expected lifetime of 108 h at 175 °C channel temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 52, Issues 9â10, SeptemberâOctober 2012, Pages 2144-2148
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 52, Issues 9â10, SeptemberâOctober 2012, Pages 2144-2148
نویسندگان
Richard Lossy, Hervé Blanck, Joachim Würfl,