کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6947284 | 1450551 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
NBTI related degradation and lifetime estimation in p-channel power VDMOSFETs under the static and pulsed NBT stress conditions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Effects of static and pulsed NBT stressing in p-channel VDMOSFETs are investigated. ⺠The results for static and pulsed stress are compared in terms of device lifetime. ⺠Device lifetime is found to be longer under the pulsed stress conditions. ⺠Lifetime tends to increase with decreasing the duty cycle of pulsed stress voltage.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 51, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2011, Pages 1540-1543
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 51, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2011, Pages 1540-1543
نویسندگان
I. ManiÄ, D. DankoviÄ, A. PrijiÄ, V. DavidoviÄ, S. DjoriÄ-VeljkoviÄ, S. GoluboviÄ, Z. PrijiÄ, N. StojadinoviÄ,