کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6947389 | 1450551 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
GaN-based HEMTs tested under high temperature storage test
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We assessed the impact of high temperature storage test on GaN HEMTs. ⺠We observed that only the gate and drain leakage currents were strongly affected by this test. ⺠The physical failure analysis revealed a Au inter-diffusion phenomenon at the gate level, affecting the gate-AlGaN interface. ⺠We speculated that Au inter-diffusion was at the origin of the gate leakage current increase.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 51, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2011, Pages 1717-1720
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 51, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2011, Pages 1717-1720
نویسندگان
D. Marcon, X. Kang, J. Viaene, M. Van Hove, P. Srivastava, S. Decoutere, R. Mertens, G. Borghs,