کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6947458 | 1450551 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A study of the effect of degradation of the aluminium metallization layer in the case of power semiconductor devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠In this study we observe ageing mechanisms of the metallisation layer deposited on the chips of power semiconductor devices. ⺠We also study the effect of aluminium metallisation degradation on electrical performances of a power transistor. ⺠The resistance of the metallization layer is measured during ageing process. ⺠Increase in the metallisation resistance is linked to the degradation of the aluminium layer.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 51, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2011, Pages 1824-1829
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 51, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2011, Pages 1824-1829
نویسندگان
S. Pietranico, S. Lefebvre, S. Pommier, M. Berkani Bouaroudj, S. Bontemps,