Functionalized graphene oxide as reinforcement in epoxy based nanocomposites

چکیده

کلمات کلیدی

1.مقدمه

شکل 1. شماتیک آماده‌سازی اکسید گرافن با روش هامرز (GO) و اصلاح سطح با استفاده از هکزامتیل‌ایندیامین (AGO).

2.مطالب و روش‌ها

1.2. مطالب

1.1.2. ماتریس

1.1.2.    تهیه اکسید گرافن (GO)

3.1.2. تولید اکسید گرافن کارکردی با هگزامتیلندیامین (AGO)

4.1.2. تهیه نانوکامپوزیت‌ها

2.2توصیف و اندازه‌گیری

1.2.2. طیف‌های مادون قرمز تغییرشکل فوریه (FT-IR)

2.2.2.طیف‌بینی رامان 

3.2.2. طیف‌بینی فوتوالکترون اشعه ایکس (XPS)

4.2.2. طیف‌بینی مادون قرمز مبتنی بر میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM-IR)

5.2.2انکسار اشعه X (XRD)

6.2.2. اسکن میکروسکوپ الکترون (SEM)

7.2.2. تحلیل‌های مکانیکی دینامیک (DMA)

8.2.2. آزمون سختی

3.نتایج و بحث

1.3. طیف‌های مادون قرمز تغییرشکل فوریه (FT-IR)

شکل 2. طیف‌های انتقال FTIR از (a) گرافیت، (b) GO و (c) AGO.

جدول 1. تخصیص‌های پیک‌های FT-IR

شکل 3. طیف‌های رامان GO و AGO.

3.3. طیف‌بینی فوتوالکترون اشعه X (XPS)

جدول 2. مقایسه ترکیب‌های اتمی GO و AGO تعیین شده با تفکیک C1s XPS

4.3. بررسی ریخت‌شناسی

5.3. طیف‌بینی مادون قرمز مبتنی بر میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM-IR)

شکل 4. (a) طیف‌های بررسی XPS از GO و AGO. (b) پیک‌های تفکیک شده طیف C1s XPS.

شکل 5. ریزنگارهای معمول SEM از (a) GO و (b) AGO.

شکل 6. تصاویر AFM با حالت ارتفاع (a و c) و تصاویر شیمیایی (b و d) به صورت همزمان در 1730 cm-1 برای نمونه‌های GO و AGO به دست آمده‌اند. 

شکل 7. الگوهای XRD از (a) گرافیت، (b) GO و (c) AGO.

6.3. انکسار اشعه ایکس (XRD)

7.3. تحلیل نانوکامپوزیت‌ها

8.3. تحلیل‌های مکانیکی دینامیک (DMA)

8.3. آزمون سختی

شکل 8. ریزنگار سطح انکسار (a-b) اپوکسی خالص، (c-d) GO/اپوکسی و (e-f) AGO/اپوکسی.

4.نتیجه‌گیری 

شکل 9. (a) ضریب ذخیره و (b)   اپوکسی خالص و کامپوزیت‌های حاوی 1 wt.% از GO و AGO.

جدول 3. ضریب ذخیره، ارتفاع پیک منحنی   و Tg از DMA نمونه‌ها.