کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7180788 | 1467847 | 2015 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A novel method for micro-gap control in electrogenerated chemical polishing
ترجمه فارسی عنوان
یک روش جدید برای کنترل میکرو فاصله در الکترودهای تولید شده شیمیایی پرداخت
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
شکاف میکرو مقیاس، پشتیبانی هیدرواستاتیک، الکترومغناطیسی شیمیایی، خشونت، تخت
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
چکیده انگلیسی
In the electrogenerated chemical polishing (EGCP), material removal rate (MRR) is inversely proportional to the processing gap. To polish a workpiece with a large area, high and uniform MRR is necessary, which prefers a small and uniform processing gap. Based on the principle of the hydrostatic support, a novel micro-gap control method is proposed. The method uniformly controls the gap between the electrode and workpiece to a micro level over a large area. A relationship between the gap size and the inlet pressure is derived theoretically and verified experimentally. The proposed method is successfully applied to the polishing of a Cu surface with a diameter of 50Â mm. Promising results are obtained that surface roughness and flatness are reduced from average roughness (Ra) 82Â nm and peak-to-valley (PV) value 290Â nm to Ra 4Â nm and PV 120Â nm, respectively.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Precision Engineering - Volume 41, July 2015, Pages 96-101
Journal: Precision Engineering - Volume 41, July 2015, Pages 96-101
نویسندگان
Jiqing Cai, Ping Zhou, Renke Kang, Kun Shan, Dongming Guo,