کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7217885 | 1470272 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Origins of residual stress in thin films: Interaction between microstructure and growth kinetics
ترجمه فارسی عنوان
ریشه های استرس باقی مانده در فیلم های نازک: تعامل بین ریز ساختار و سینتیک رشد
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
فیلم های نازک رشد فیلم نازک، فیلمهای پلی کریستال، استرس باقی مانده، ریز ساختار، الکترود
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی (عمومی)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials & Design - Volume 110, 15 November 2016, Pages 616-623
Journal: Materials & Design - Volume 110, 15 November 2016, Pages 616-623
نویسندگان
A.M. Engwall, Z. Rao, E. Chason,