کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
737298 | 893925 | 2008 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Development of fabrication process for integrated micro-optical elements on Si substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
الکتروشیمی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Development of fabrication process for integrated micro-optical elements on Si substrate Development of fabrication process for integrated micro-optical elements on Si substrate](/preview/png/737298.png)
چکیده انگلیسی
We have developed a new process for fabricating micro-optical elements by applying deep reactive ion etching (DRIE) process and thermal oxidation. This processing technique enables us to make micro-lenses and prisms on a Si substrate without assembly because they are made on the Si substrate with a single etching mask. This process can also form other optical elements, such as optical waveguides, by changing the mask pattern.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Sensors and Actuators A: Physical - Volume 143, Issue 1, 2 May 2008, Pages 77–83
Journal: Sensors and Actuators A: Physical - Volume 143, Issue 1, 2 May 2008, Pages 77–83
نویسندگان
Junji Ohara, Kazuhiko Kano, Yukihiro Takeuchi,