کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7833124 1503515 2018 21 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In-situ xrd-investigation of electrolytic copper layer
ترجمه فارسی عنوان
در مرحله اول بررسی لایه مس الکترولیتی
کلمات کلیدی
رسوب الکترولیتی، ریز ساختار، پراش اشعه ایکس در محل،
ترجمه چکیده
در این مقاله، روش تحقیق در محدوده میکروساختار لایه های فلزی رسوب شده الکترولیتی را با استفاده از یک اشعه ایکس معمولی مورد بررسی قرار می دهد. سلول اشعه ایکس الکتروشیمیایی مورد استفاده باعث کاهش ضخامت فیلم الکترولیتی در طول پراش اشعه ایکس می شود تا از کاهش قابل توجهی از شدت ناشی از پراکندگی پراکنده جلوگیری شود. نتایج نشان می دهد که ساختار میکروساختار لایه های مس بستگی به ضخامت لایه و پتانسیل رسوب دارد. اجتناب از هر گونه آلودگی با محیط محیط و کنترل پیوسته پتانسیل، شرایط ثابت سطح نمونه را بین مراحل رسوب و در طول اندازه گیری پراکندگی تضمین می کند.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش مقاله
در مرحله اول بررسی لایه مس الکترولیتی
چکیده انگلیسی
The present work investigates the approach of the in-situ investigation of the microstructure of electrolytic deposited metal layers by using a conventional x-ray diffractometer. The used electrochemical x-ray cell used allows the reduction of the electrolytic film thickness during the x-ray diffraction to avoid a significant reducing of intensity caused by diffuse scattering. The results reveals the microstructure development of copper layers depending on the layer thickness and the deposition potential. The avoidance of any contamination with an ambient atmosphere and the continuously potential control guarantees steady conditions of the sample surface between the deposition steps and during the diffraction measurement.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 457, 1 November 2018, Pages 815-820
نویسندگان
, , , ,