کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7835498 | 1503534 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolution
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolution In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolution](/preview/png/7835498.png)
چکیده انگلیسی
A higher structural stability was observed in some of the samples, particularly on those with highest oxygen content, but also on the sample with non-metal (OÂ +Â N) to metal (Ta) ratio around 0.5.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 438, 30 April 2018, Pages 14-19
Journal: Applied Surface Science - Volume 438, 30 April 2018, Pages 14-19
نویسندگان
L. Cunha, M. Apreutesei, C. Moura, E. Alves, N.P. Barradas, D. Cristea,