کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7923572 | 1511835 | 2011 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
â¶ Growth of crystalline anatase TiO2 can be controlled by % O2 and sputtering power. â¶ Agglomeration of TiO2 nano-sized grains is observed and rises with decrease in % O2. â¶ Nano-sized grains promote the formation of porous TiO2 films. â¶ Deposition parameters have great influence on the optical properties of TiO2 films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 126, Issues 1â2, 15 March 2011, Pages 73-81
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 126, Issues 1â2, 15 March 2011, Pages 73-81
نویسندگان
S. Sério, M.E. Melo Jorge, M.J.P. Maneira, Y. Nunes,