کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7923572 1511835 2011 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering
چکیده انگلیسی
▶ Growth of crystalline anatase TiO2 can be controlled by % O2 and sputtering power. ▶ Agglomeration of TiO2 nano-sized grains is observed and rises with decrease in % O2. ▶ Nano-sized grains promote the formation of porous TiO2 films. ▶ Deposition parameters have great influence on the optical properties of TiO2 films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 126, Issues 1–2, 15 March 2011, Pages 73-81
نویسندگان
, , , ,