کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8038808 | 1518409 | 2018 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Damage-free highly efficient polishing of single-crystal diamond wafer by plasma-assisted polishing
ترجمه فارسی عنوان
نقرهای بسیار کارآمد بدون آسیب رساندن ویفر های الماس تک کریستالی به وسیله پلاریزاسیون، پرداخت می شود
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
پرداخت کریستال تک یکپارچگی سطح،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
چکیده انگلیسی
Single-crystal diamond (SCD) is considered to be an ideal material for next-generation power devices. Plasma-assisted polishing (PAP) without using an abrasive was applied to polish SCD fabricated by chemical vapor deposition. Argon-based plasma containing water vapour was used in the PAP to modify the surface of polishing plate and SCD (100), and SCD was polished under a polishing pressure ranging from 10 to 52.6 kPa. Raman spectroscopy measurement showed that there was no residual stress on the polished SCD surface, and a polishing rate of 2.1 μm/h and a surface roughness of 0.13 nm Sq were obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: CIRP Annals - Volume 67, Issue 1, 2018, Pages 353-356
Journal: CIRP Annals - Volume 67, Issue 1, 2018, Pages 353-356
نویسندگان
K. Yamamura, K. Emori, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno,