کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8044067 | 1518916 | 2018 | 22 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A short review on thermal vapor sulfurization of semiconductor thin films for optoelectronic applications
ترجمه فارسی عنوان
بررسی کوتاه در مورد بخار حرارت بخار از فیلم های نازک نیمه هادی برای کاربردهای اپتوالکترونیک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
Band-gap and electrical engineering of semiconductor thin films as well as their heterostructural integrations are of increasing interest in optoelectronics for photodiodes and energy harvesting. In this short review, we have presented and discussed how semiconductor thin film materials are processed under vaporized sulfur environment at elevated temperatures, i.e., thermal vapor sulfurization (TVS), for advanced optoelectronic applications. Examples of the uses of TVS over a wide range of materials and length scales are also discussed. We conclude that this relatively simple and low-cost processing method, i.e., TVS, although has some remaining issues for practical industrial applications, can have important consequences in feasible explorations of novel opto-electronic materials.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 154, August 2018, Pages 44-48
Journal: Vacuum - Volume 154, August 2018, Pages 44-48
نویسندگان
Hongfei Liu,