کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8044783 | 1518924 | 2017 | 26 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasma diagnostic of cup-like magnetron source for transparent conductive oxide thin films
ترجمه فارسی عنوان
تشخیص پلاسما از منبع مغناطیسی جام مانند برای فیلم های نازک هدایت اکسید
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
طیف سنجی نوری، پرتقال، فیلم های نازک مقاومت الکتریکی، اکسید روی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
Novel designs of magnetron sputtering sources provide desired control over plasma parameters for efficient use of mass and energy transport during the deposition of thin films. Here, a cup-like magnetron source, comprising a base and a cylinder part, is developed and diagnosed for deposition of transparent conductive Al doped ZnO thin films. The coupling of the base or/and cylinder parts, applied power and working pressure are systematically varied and consequent effects on the plasma density, electron temperature, and substrate temperature are studied. The sensitive optical emission and absorption spectroscopic results of plasmas reveal that base source mainly delivers the Zn ionic species whereas coupling of cylinder source induces higher ion-electron recombination and lowering the substrate temperature. The present source is capable of producing Al doped ZnO thin films with resistivity in the range of 5 Ã 10â2 Ωcm to 12.1 Ωcm and process throughput close to 40 nm/min under conditions of plasma induced substrate temperature â¤60 °C. The obtained values have promising applications for flexible electronics.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 146, December 2017, Pages 517-523
Journal: Vacuum - Volume 146, December 2017, Pages 517-523
نویسندگان
Manish Kumar, Long Wen, Jeon Geon Han,