کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8045410 | 1518982 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Local sputter etching by micro plasma jet in SEM
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We propose local micro sputter etching by DC Ar plasma in SEM chamber. ⺠An orifice gas nozzle as an anode was used for DC plasma generation. ⺠Gap distance and gas flow rate play an important role in V-I characteristics. ⺠From the V-I characteristics, the proper condition for micro sputtering was achieved.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 132-135
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 132-135
نویسندگان
Khanit Matra, Yusuke Mizobuchi, Hiroshi Furuta, Akimitsu Hatta,