کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8045410 1518982 2013 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Local sputter etching by micro plasma jet in SEM
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Local sputter etching by micro plasma jet in SEM
چکیده انگلیسی
► We propose local micro sputter etching by DC Ar plasma in SEM chamber. ► An orifice gas nozzle as an anode was used for DC plasma generation. ► Gap distance and gas flow rate play an important role in V-I characteristics. ► From the V-I characteristics, the proper condition for micro sputtering was achieved.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 132-135
نویسندگان
, , , ,