کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8045441 | 1518982 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of Ni0.92V0.08Ox thin films deposited by the pulse sputter method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Characterization of Ni0.92V0.08Ox thin films deposited by the pulse sputter method Characterization of Ni0.92V0.08Ox thin films deposited by the pulse sputter method](/preview/png/8045441.png)
چکیده انگلیسی
⺠We successfully deposit Ni0.92V0.08Ox films on ITO/glass by pulse sputter method. ⺠The optical properties of the films are analyzed by a UV/VIS spectrophotometer. ⺠The electrochromic properties heavily depend on power and the argon/oxygen ratio.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 169-173
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 169-173
نویسندگان
Ko-Wei Weng, Ya-Chi Chen, Tai-Nan Lin, Yun-Da Li, Tien-Lai Chen,