کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8045502 | 1518982 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermal stability and electrical properties of Ag-Ti films and Ti/Ag/Ti films prepared by sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Ag-Ti alloy film shows agglomeration suppression effect by forming thin Ti oxide layer at the film surface by annealing. ⺠Ti/Ag/Ti film shows the same effect and lower electrical resistivity than the alloy film. ⺠Ti interface layer can enhance adhesion between the Si oxide substrate and Ag film. ⺠Ti is useful as well as Al to suppress agglomeration phenomenon of Ag thin film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 222-226
Journal: Vacuum - Volume 87, January 2013, Pages 222-226
نویسندگان
M. Kawamura, Z. Zhang, R. Kiyono, Y. Abe,