کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8154521 | 1524799 | 2017 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thin film phase diagram of iron nitrides grown by molecular beam epitaxy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A low-temperature thin film phase diagram of the iron nitride system is established for the case of thin films grown by molecular beam epitaxy and nitrided by a nitrogen radical source. A fine-tuning of the nitridation conditions allows for growth of αâ²-Fe8Nx with increasing c/a-ratio and magnetic anisotropy with increasing x until almost phase pure αâ²-Fe8N1 thin films are obtained. A further increase of nitrogen content below the phase decomposition temperature of αâ²-Fe8N (180 °C) leads to a mixture of several phases that is also affected by the choice of substrate material and symmetry. At higher temperatures (350 °C), phase pure γâ²-Fe4N is the most stable phase.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Magnetism and Magnetic Materials - Volume 422, 15 January 2017, Pages 407-411
Journal: Journal of Magnetism and Magnetic Materials - Volume 422, 15 January 2017, Pages 407-411
نویسندگان
D. Gölden, E. Hildebrandt, L. Alff,