کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
846127 | 909172 | 2014 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasmonic nanolithography based on cavity resonance through thick metal mask
ترجمه فارسی عنوان
نانولیتوگرافی پلاسما بر اساس رزونانس حفره از طریق ماسک ضخیم فلز
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
لیتوگرافی پلاسمونیک، محدودیت پراکندگی، رزونانس حفره، ماسک فلزی ضخیم
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی (عمومی)
چکیده انگلیسی
Plasmonic lithography is a very promising fabrication technology to obtain nanoscale structures beyond the diffraction limit. In this paper, a new plasmonic lithography is proposed to realize high efficiency fabrication of arbitrary patterns, which is based on cavity resonance through a thick metal mask. The mechanism of the cavity resonance transmission is explored. The one dimension (1D) and two dimension (2D) printings are simulated and discussed. The simulated results show the method that provides potential to pattern feature size with at least 40 nm, about λ/11.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optik - International Journal for Light and Electron Optics - Volume 125, Issue 14, July 2014, Pages 3405–3409
Journal: Optik - International Journal for Light and Electron Optics - Volume 125, Issue 14, July 2014, Pages 3405–3409
نویسندگان
Chaoping Yao, Wei Xia, Shouqiang Zhang, Jia Liu, Xiaowei Guo, Zhiyou Zhang,