کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
852482 | 909384 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Error analysis of digital virtual mask fabrication technique
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The digital virtual mask technique based on digital micro-mirror device (DMD) is applied in the field of micro-engineering such as the machining of micro-optical elements. On the premise of universality, the error of digital virtual mask technique is theoretically deduced, combined with the functional diagram used in the experiment. Based on the expanding application of Rayleigh's criterion, the reference of calculating the error of the lithography mask technique is given. And the method of improving the technique is also discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optik - International Journal for Light and Electron Optics - Volume 119, Issue 13, October 2008, Pages 633–636
Journal: Optik - International Journal for Light and Electron Optics - Volume 119, Issue 13, October 2008, Pages 633–636
نویسندگان
Min Chen, Shenglin Yu, Ningning Luo, Yiqing Gao,