کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9566941 | 1503709 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Near-field optical lithography method for fabrication of the nanodimensional objects
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A new method of contact scanning near-field optical lithography has been developed to enable fabrication of elements with characteristic dimensions of 30-50Â nm. The method involves the deposition of a thin-layer polymer-metal coating, the thermal destructive deformation of a top metal layer with a probe of scanning near-field optical microscope (SNOM), the transfer of the pattern through the polymer by using dry etching and the formation of various nanoelements through this prepared mask. The method is applicable to any material, e.g. metal, dielectric, light/heavy doped semiconductors for the formation of nanometre objects.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 248, Issues 1â4, 30 July 2005, Pages 200-203
Journal: Applied Surface Science - Volume 248, Issues 1â4, 30 July 2005, Pages 200-203
نویسندگان
V.F. Dryakhlushin, A.Yu. Klimov, V.V. Rogov, N.V. Vostokov,